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筑波大学微細加工プラットフォームでは、全国の大学・研究機関とともに所有する先端的なナノテクノロジー研究設備の共用ネットワークを構築いたします。それによって画期的な材料開発に挑む産学官の利用者に対して、高度な技術支援とともに利用機会をご提供いたします。

概要へ

学外の方へ

公開している全ての機器（15台）について、オペトレ後、ご利用可能です。
「概要」をお読みになり、その後、「ご利用方法」へとお進みください。

学内の方へ

本学研究基盤総合センター・オープンファシリティ推進室HPの "学内の方"より、お入りください。利用登録申請、装置予約等が可能です。


(注意)
1. 予約された時間帯は機器を占有することになりますので、課金は機器の実働時間ではなく、予約時間で計算させていただきます。ご了解ください。
2. 数理物質科学研究科（数理物質系）の方は、手続きの簡素化のため、複数の装置を使う場合でも、利用申請書を研究室で１件ご提出して頂ければ十分です。 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

オープンファシリティ推進室のHPへ

利用事例

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例えば以下のような受託テーマでのご利用事例があります。

  • ・CNT成長基部構造の断面観察と組成分析評価、ならびにTEM用薄片の作製。
  • ・SETナノギャップ構造の断面観察評価
  • ・Siナノワイヤトランジスタの電気特性の最適化とそれを実現するデバイス構造のシミュレーションによる検証実験
  • ・Si系ショットキ障壁型トンネルトランジスタ(TFET)のシミュレーションによる検討

利用事例へ

装置について

deviceIndex

ナノデバイスの試作条件の策定に不可欠なデバイスシミュレーター、ナノデバイスの試作を具体化するレーザー描画装置、ナノ構造体試作を支援するFIB装置などがご利用いただけます。

装置一覧へ
装置例：スパッタリング装置
SPUTTER

芝浦メカトロニクス社製CFS-4EP-LL
基板テーブル：Φ220 mm
ターゲット：Φ3インチGUN x 4基
（強磁性体材料用GUN1基含む）
使用ガス：Ar, O2, N2ガス

装置一覧へ

お知らせ

≪第7回装置講習会~10月~≫
*ダイシングマシン講習会(10/23, 9:30--11:30)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(10/23, 14:00--16:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第6回装置講習会~9月~≫
*ダイシングマシン講習会(9/18, 14:00--16:00)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(9/25, 14:00--16:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第5回装置講習会~8月~≫
*ダイシングマシン講習会(8/22, 14:00--16:00)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(8/21, 14:00--16:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第4回装置講習会~7月~≫
*ダイシングマシン講習会(7/14, 14:00--16:00)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(7/24, 14:00--16:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第3回装置講習会~6月~≫
*ダイシングマシン講習会(6/12, 10:00--12:00)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(6/14, 14:00--16:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第2回装置講習会~5月~≫
*ダイシングマシン講習会(5/22, 10:00--12:00)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(5/22, 14:00--16:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第1回装置講習会~4月~≫
*ダイシングマシン講習会(4/15, 14:00--16:00)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(4/24, 14:00--16:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第12回装置講習会~3月~≫
*ダイシングマシン講習会(3/19, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(3/22, 15:00--17:00)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第11回装置講習会~2月~≫
*ダイシングマシン講習会(2/15, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(2/6, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第10回装置講習会~1月~≫
*ダイシングマシン講習会(1/18, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(1/17, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第9回装置講習会~12月~≫
*ダイシングマシン講習会(12/21, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(12/20, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第8回装置講習会~11月~≫
*ダイシングマシン講習会(11/16, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(11/22, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第7回装置講習会~10月~≫
*ダイシングマシン講習会(10/12, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(10/25, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第6回装置講習会~9月~≫
*ダイシングマシン講習会(9/14, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(9/20, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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≪第5回装置講習会~8月~≫
*ダイシングマシン講習会(8/31, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
*パターン投影リソグラフィ装置講習会(8/24, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。

staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
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ダイシングマシン講習会(7/26, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(7/19, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

ダイシングマシン講習会(6/20, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(6/21, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

ダイシングマシン講習会(5/16, 13:45--15:45)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(5/24, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

ダイシングマシン講習会(4/18, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(4/19, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


ダイシングマシン講習会(3/8, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(3/15, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

ダイシングマシン講習会(2/14, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(2/23, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

ダイシングマシン講習会(1/24, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(1/25, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

ダイシングマシン講習会(12/6, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(12/20, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


ダイシングマシン講習会(12/21, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(11/16, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


ダイシングマシン講習会(10/11, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(10/26, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


ダイシングマシン講習会(9/22, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(9/29, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


Bruker社 SPMセミナー(8/23, 13:40--15:30)を共同研究棟C 大セミナー室で行います（無料）。
参加を希望する方は、8/21までにstaff@u-tsukuba-nanotech.jpまで。
内容: 高分解能データが容易に得られるPeak Force Tappingとナノ機械特性評価


ダイシングマシン講習会(8/23, 13:40--15:40)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(8/24, 13:40--15:40)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


2017.06.21
ダイシングマシン講習会(7/19, 13:00--15:00)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(7/20, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


2017.05.31
ダイシングマシン講習会(6/14, 13:00--15:00)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(6/15, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


2017.05.1
ダイシングマシン講習会(5/17, 13:00--15:00)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(5/24, 13:00--15:00)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


2017.04.11
ダイシングマシン講習会(4/26, 13:00--15:00)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html

パターン投影リソグラフィ装置講習会(4/28, 13:30--15:30)を共同研究棟C107室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


2017.04.06
H29年度の課題申請を開始しました。


2017.01.25
ダイシングマシン講習会(2/15, 13:00--15:00)を共同研究棟C309室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


パターン投影リソグラフィ装置講習会(2/20, 14:00--16:00)をベンチャービジネス棟402-4室で行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

2017.01.04
パターン投影リソグラフィ装置講習会(1/16, 14:00--16:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

ダイシングマシン講習会(1/18, 13:00--15:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
時間課金（参加人数分課金します)
機器利用講習会へ参加を希望される場合は、下記URLの「利用登録申請書」にご記入の上、担当スタッフまでお送りください。 http://www.u-tsukuba-nanotech.jp/source/index.html


2016.12.16
日立ハイテクによるSEM講習会・操作講習会(Jan.19(木) 13:40--13:50)を行います。
講習会(無料)13:40--14:40、第三エリア共同研究C棟3階大セミナー室
件名に「SEM講演会参加登録」と記載して、1/13(金) 17時までにstaff@u-tsukuba-nanotech.jpまで。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
実機操作講習(有料)15:00--17:00、共同研究C棟107室
件名に「SEM操作講習会応募」と記載して、1/6(金)までにstaff@u-tsukuba-nanotech.jpまで。
人数制限：2-3名（試料持ち込み可）
参加費：学内（\2,250-）、学外(\11,880-)
参加条件：＜学内＞オープンファシリティの利用申請、および、筑波大微細加工PFの利用申請書＆利用報告書の提出 ＜学外＞筑波大微細加工PFの利用申請書＆利用報告書の提出


　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

2016.12.07
インクジェットパターン形成装置(メーカーによる無料講習会, December 22, 13:30--16:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（12/19まで先着5名、但し、各研究室から2名まで）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

2016.11.24
パターン投影リソグラフィ装置講習会(December 19, 13:00--15:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

ダイシングマシン講習会(December 7, 13:00--15:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）


2016.11.01
パターン投影リソグラフィ装置講習会(November 14, 13:00--15:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

ダイシングマシン講習会(November 16, 13:00--15:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）


2016.10.04
パターン投影リソグラフィ装置講習会(October 28, 10:00--12:00)を行います。
staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで（先着5名、但し、各研究室から2名まで）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

2016.09.13
日立ハイテクによるSEM講習会(Oct. 13)を行います。
講習会(無料)13:30--15:20、第三エリア共同研究C棟3階大セミナー室
件名に「SEM講演会参加登録」と記載して、staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
実機操作講習(有料)15:30--17:00
件名に「SEM操作講習会応募」と記載して、staff@u-tsukuba-nanotech.jpまで。
人数制限：5名（試料持ち込み可）
参加費：学内（\2,250-）、学外(\11,880-)


2016.09.11
ダイシングマシン講習会(Oct. 12, 13:00--15:00)を行います。
パターン投影リソグラフィ講習会(Sept. 26, 10:00--12:00)を行いました。

2016.08.20
バイオ&計測実践セミナーIII(Oct. 4, 12:55-17:10)を産総研で行います。
https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h28-2/profile/index.html

2016.07.21
ダイシングマシン講習会(August 3, 14:00--16:00)を行います。
パターン投影リソグラフィ装置講習会(August 9, 14:00--16:00)を行います。

2016.07.05
ダイシングマシン講習会(July 13, 14:00--16:00)を行いました。
パターン投影リソグラフィ装置講習会(July 14, 14:00--16:00)を行いました。

2016.06.10
パターン投影リソグラフィ装置講習会(June 23, 14:00--16:00)を行いました。

ダイシングマシン講習会(June 20, 13:30--15:30)を行いました。


2016.04.02
利用事例を追加しました。

2015.10.08
装置を追加しました。

2015.8.08
・バイオ&計測セミナーの受付を開始しました(先着100名, 講義9/8, 実習9/29他)
・FIBセミナーを実施する予定です(11月)

2015.4.03
・装置を追加しました。また、利用料金を改訂しました。

2015.3.24
・ウェハーダイシングマシン追加しました。
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